%0 Journal Article
%T 氮化碳薄膜的制备及研究现状
%A 宋银
%A 侯明东
%A 王志光
%A 赵志明
%A 段敬来
%J 高压物理学报
%P 311-318
%D 2003
%R 10.11858/gywlxb.2003.04.012
%X 氮化碳具有良好的物理、化学性质和广泛的应用前景。目前主要采用化学气相沉积法、离子束溅射法、激光等离子体沉积和激光烧蚀、离子镀、离子注入法等制备方法。文中对氮化碳的结构、性质、制备、性能表征以及研究现状进行了比较详细的介绍。
%K 氮化碳薄膜
%K 制备
%K 性能表征
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract550.shtml