%0 Journal Article
%T W过渡层结合界面对金刚石薄膜在WC-6%Co上的附着力的影响
%A 王传新
%A 汪建华
%A 满卫东
%A 马志斌
%A 王升高
%A 康志成
%J 高压物理学报
%P 83-89
%D 2004
%R 10.11858/gywlxb.2004.01.015
%X 在微波等离子体化学气相沉积装置中，采用负偏压形核等方法，研究两种不同的W过渡层/基体结合界面对金刚石薄膜与WC-6%Co附着力的影响。采用氢等离子体脱碳、磁控溅射镀W、高偏压碳化等方法，在YG6衬底表面形成化学反应型界面，W膜在碳化时和基体WC连为一体，极大地增加了W膜与基体的附着力，明显优于直接镀钨、碳化形成的物理吸附界面。在高负偏压下碳化，能提高表面粗糙度，增加膜与基体机械钳合，而负偏压形核增加核密度，从而增加膜与基体的接触面积，结果极大地提高了金刚石薄膜的附着力。
%K 金刚石薄膜
%K YG6硬质合金
%K 附着力
%K 过渡层
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract533.shtml