%0 Journal Article
%T 1064nm激光对氧化铟锡薄膜的损伤研究
%A 李阳龙
%A 王伟平
%A 骆永全
%A 王海峰
%A 张大勇
%J 高压物理学报
%P 107-112
%D 2012
%R 10.11858/gywlxb.2012.01.016
%X 液晶光学器件在激光光束精密控制上具有重要应用前景，氧化铟锡（ITO）薄膜作为液晶光学器件的透明导电电极，是液晶器件激光损伤的薄弱环节。为此，建立了ITO薄膜激光热损伤物理模型。理论计算结果表明：1064nm激光对ITO薄膜的损伤主要为热应力损伤；连续激光辐照下，薄膜损伤始于靠近界面的玻璃基底内；脉冲激光辐照下，温升主要发生在光斑范围内的膜层，薄膜损伤从表面开始。利用泵浦探测技术，研究了ITO薄膜的损伤情况，测量了不同功率密度激光辐照后薄膜的方块电阻，结合1-on-1法测定了ITO薄膜的50%损伤几率阈值。实验结果表明：薄膜越厚，方块电阻越小，激光损伤阈值越低；薄膜未完全损伤前，方块电阻随激光功率密度的增加而增大。理论计算与实验结果吻合较好。设计液晶光学器件中的ITO薄膜电极厚度时，应综合考虑激光损伤、透光率及薄膜电阻的影响。
%K 激光辐照
%K 液晶光学器件
%K 损伤阈值
%K 氧化铟锡薄膜
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract1432.shtml