%0 Journal Article
%T 超高速发射中缓冲层材料对钽飞片速度影响的数值分析
%A 柏劲松
%A 沈强
%A 唐蜜
%A 胡建波
%A 罗国强
%A 谭华
%A 张联盟
%J 高压物理学报
%P 19-24
%D 2008
%R 10.11858/gywlxb.2008.01.005
%X 在超高速发射技术研究中，缓冲层材料起着十分重要的作用。通过数值计算，分析了TPX缓冲层材料的厚度对高阻抗钽飞片超高速发射速度的影响，给出了最优的缓冲层材料厚度，对于0.3和0.5mm厚的钽飞片，选取不同厚度的TPX缓冲层材料，钽飞片中心速度的相对误差达到5%～6%；为了比较不同缓冲层材料对钽飞片速度的影响，还给出了相同厚度的TPX和Lexan材料作缓冲层时，钽飞片的中心速度和压力历史的二维计算结果。
%K 超高速发射
%K 数值计算
%K 缓冲层
%U http://www.gywlxb.cn/CN/abstract/abstract168.shtml