%0 Journal Article
%T 工艺参数对化学气相沉积ZrC涂层形貌和组分的影响
%A 刘巧沐
%A 张立同
%A 刘佳
%A 成来飞
%J 复合材料学报
%P 62-67
%D 2010
%X 利用ZrCl4-Ar-CH4-H2体系,采用化学气相沉积法（CVD）制备了ZrC涂层。研究了不同基底、沉积温度、先驱体中CH4与ZrCl4浓度比（C/Zr）对涂层形貌、物相和组分的影响规律和作用机制。结果表明,不同基底对该体系沉积的ZrC涂层形貌没有显著影响。沉积温度对ZrC涂层形貌影响较大,当温度从1100℃增加到1350℃时,涂层形貌由片状转变到荔枝状，且涂层中的C含量随温度的升高而增加。先驱体中的C/Zr比对涂层形貌和组分也有重要影响,当C/Zr比从8.5减小到3.5时,涂层由疏松多孔形貌经菜花状向玻璃态形貌演变,且涂层中的C含量随C/Zr比的减小而减少。
%K 化学气相沉积
%K 碳化锆
%K 涂层
%K 工艺参数
%K 形貌
%K 作用机制
%U http://fhclxb.buaa.edu.cn/CN/abstract/abstract10237.shtml