%0 Journal Article
%T Mdea Based Solvents Used At the Lacq Processing Plant Utilisation de solvants ¨¤ base de MDEA ¨¤ l'usine de Lacq
%A Elgue J.
%A Lallemand F.
%J Oil & Gas Science and Technology
%D 2006
%I Institut Fran?ais du P¨¦trole
%R 10.2516/ogst:1996044
%X The use of MDEA-based solvents has allowed the processing scheme of the sour natural gases treated at the Lacq plant to be modified, leading to substantial savings in operating costs. Compared to the well known SNPA-DEA process, the new MDEA-based solvents meet the same performance requirements as regards H2S and CO2 removal, but are far more economic in terms of energy consumption. MDEA is used to selectively remove H2S from the gas, while activated MDEA is used when total acid gas removal is necessary. The adequate activator has been selected from among a series of products, according to the actual plant specificity. Optimization of the process has included the selection of the proper contacting device : for this mass transfer enhanced by chemical first order reaction, structured packings have proven to be more efficient than trays. L'utilisation de solvants ¨¤ base de MDEA a permis de modifier le sch¨¦ma de d¨¦sulfuration du gaz de Lacq et de r¨¦aliser ainsi de substantielles ¨¦conomies de traitement. Les proc¨¦d¨¦s ¨¤ base des nouveaux solvants permettent d'atteindre les m¨ºmes performances d'¨¦limination de H2S et du CO2, avec une consommation d'¨¦nergie tr¨¨s inf¨¦rieure ¨¤ celle du d¨¦sormais classique proc¨¦d¨¦ SNPA-DEA. La MDEA est utilis¨¦e pour l'enl¨¨vement s¨¦lectif de l'H2S, alors que la MDEA activ¨¦e permet l'¨¦limination compl¨¨te des compos¨¦s acides. L'activateur le mieux adapt¨¦ aux conditions de fonctionnement sp¨¦cifiques des unit¨¦s de Lacq a ¨¦t¨¦ s¨¦lectionn¨¦ parmi une s¨¦rie de produits. Dans le cadre de l'optimisation des unit¨¦s, les internes du contacteur gaz/liquide ont ¨¦t¨¦ chang¨¦s : les garnissages structur¨¦s ont confirm¨¦ leur efficacit¨¦ sup¨¦rieure ¨¤ celle des plateaux ¨¤ clapets pour ce transfert de mati¨¨re avec r¨¦action chimique.
%U http://dx.doi.org/10.2516/ogst:1996044