%0 Journal Article
%T Silicon superficial texturing bypulsed laser
%A Ponce
%A L.
%A Castellanos
%A A.
%A Arronte
%A M.
%A Flores
%A T.
%J Revista de Metalurgia
%D 1998
%I Consejo Superior de Investigaciones Cient¨ªficas
%X Texturing of silicon surfaces with pulsed laser is made. The method is based on the formation of laser- induced periodic surface structure (LIPSS). The process is temporary characterized through the dynamic reflectance, thus determining the formation threshold of the structure. Relation between the different textures and the spectral reflectance of the samples before and after the treatment is also characterized. The mean value of spectral reflectance decreases up to a 6 %. Se realiza el texturado de superficies de silicio con un l¨¢ser pulsado mediante la formaci¨®n de una estructura peri¨®dica inducida por l¨¢ser (LIPSS). Se caracteriza el proceso mediante reflectancia din¨¢mica, determin¨¢ndose el umbral de formaci¨®n de la estructura. Se caracteriza el nivel de texturado midiendo la reflectancia espectral de las muestras antes y despu¨¦s del tratamiento. El valor medio de la reflectancia espectral disminuye hasta el 6 %.
%K Laser
%K Texturing
%K Silicon
%K Reflectance
%K LIPSS
%K L¨¢ser
%K Texturado
%K Silicio
%K Reflectancia
%K LIPSS
%U http://revistademetalurgia.revistas.csic.es/index.php/revistademetalurgia/article/view/678/690