%0 Journal Article
%T Crystal Structure and Friction and Wear Properties of Cu Films Deposited at Low Temperatures by Ion Plating<br>低温沉积Cu膜的晶体结构及摩擦磨损性能的初步研究
%A GAO Xiao-ming
%A SUN Jia-yi
%A HU Ming
%A WENG Li-jun
%A LIU Wei-min
%A <br>高晓明
%A 孙嘉奕
%A 胡明
%A 翁立军
%A 刘维民
%J 摩擦学学报
%D 2007
%I 
%X 采用离子镀技术于45#钢基体表面在低温(164～115 K)和常温(291 K)条件下沉积Cu膜,通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜研究Cu膜的晶体结构及其表面形貌,采用划痕试验法测量Cu膜的临界载荷(Lc),在真空球-盘摩擦磨损试验机上考察其摩擦磨损性能并探讨其磨损机理.结果表明:基体温度对Cu膜的择优取向影响明显,在常温(291 K)下沉积的Cu膜为(200)择优取向,基体温度降至164 K以下所沉积的Cu膜呈现出明显的(111)择优取向;低温沉积Cu膜的表面较为光滑,其Lc值明显高于常温沉积的Cu膜;低温沉积Cu膜的磨损率明显低于常温沉积Cu膜,表现出良好的耐磨性,这主要是由于低温沉积Cu膜具有(111)择优取向和良好的膜-基结合力的缘故.
%K Cu films
%K low temperature deposition
%K preferred orientation
%K friction and wear properties<br>Cu膜
%K 低温沉积
%K 择优取向
%K 摩擦磨损性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=2CF308D543949B1C&yid=A732AF04DDA03BB3&vid=DB817633AA4F79B9&iid=E158A972A605785F&sid=51C74DF6A16DA45B&eid=7737D2F848706113&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=8