%0 Journal Article
%T 溅射工艺对MoS_2溅射膜性能的影响
%A 朱昌铭
%A 朱才录
%A 张海
%A 袁娟娟
%A 徐锦芬
%J 摩擦学学报
%D 1982
%I 
%X 为了进一步认识溅射MoS_2的成膜机理和提高该膜的性能,作者进行了溅射工艺对该膜性能影响的研究并考察了溅射电压、氨气压力、镀层厚度、底材形态与膜的淀积速率和耐磨寿命间的关系。这些结果表明,膜的淀积速率,耐磨寿命受电压和气压的影响具有一定的规律,膜的生长状态随厚度的增长而有所变化,使膜的颜色由灰色逐渐变为烟黑色,相应的淀积速率也有明显的不同。
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=7C8E36EFB9110D553E1E569E077BCA46&yid=3F3D540C9B7906DE&vid=0B39A22176CE99FB&iid=38B194292C032A66&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=0