%0 Journal Article
%T Effect of Processing Variables on the Composition and Microstructure of lon Beam Enhanced Deposition SisN4 Film<br>工艺因素对离子束增强沉积氮化硅薄膜组成与结构的影响
%A Zhuang Daming
%A Liu Jiajun
%A Li Wenzhi
%A Zhu Baoliang
%A <br>庄大明
%A 张绪寿
%J 摩擦学学报
%D 1995
%I 
%X 本世纪８０年代以来，利用各种表面技术陶瓷材料涂覆于金属零件表面的研究发展很快，离子束增强沉积技术以其突出的优点更受到重视，利用这种技术合成陶瓷薄膜是一种新的物理气相沉积方法，而沉积薄膜的质量，性能和成膜速度都会受到工艺因素的影响，由于氮化硅陶瓷的硬度高，韧性和高温稳定性都比较好，是一种相当理想的耐磨材料，且其还有一定的自润滑性，因此，着重研究了氮离子束流和束压，氮离子与硅原子在基片上的达比，以及不
%K ion beam enhanced deposition ceramics
%K thin film chemical composition
%K crystal structure
%K single crystal silicon
%K 52100 steel<br>离子束增强沉积
%K 化学组成
%K 氮化硅
%K 薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=65E17E8BF6D009C442F3E7005DCC68E6&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=23CCDDCD68FFCC2F&iid=0B39A22176CE99FB&sid=C3BF5C58156BEDF0&eid=89F76E117E9BDB76&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=5