%0 Journal Article
%T Friction and Wear Characteristics of Nano-Structured Ti-Si-N Films on a High Speed Steel Substrate Prepared by Pulsed-Direct Current Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition<br>脉冲直流等离子体增强化学气相沉积Ti—Si—N纳米薄膜的摩擦磨损特性
%A 马大衍
%A 王昕
%A 马胜利
%A 徐可为
%A 徐洮
%J 摩擦学学报
%D 2003
%I 
%X 采用工业型脉冲等离子体增强化学气相沉积设备，通过调节氯化物混合比例控制薄膜成分，在高速钢基材表面于550℃下沉积由纳米晶TiN和纳米非晶Si3N4组成的Ti—Si—N复合薄膜；采用扫描电子显微镜、透射电子显微镜、X射线衍射仪及X射线光电子能谱仪分析了薄膜的结构、组成和化学状态；采用球-盘高温摩擦磨损试验机考察了薄膜同GCrl5钢对摩时的摩擦磨损性能．结果表明：薄膜的Si含量在0％～35％范围内变化，随着Si含量增大，薄膜沉积速率增大，但薄膜由致密形态向大颗粒疏松态过渡；薄膜的晶粒尺寸为7～50nm；Ti—Si—N薄膜的显微硬度高于TiN的硬度，最高可达60GPa；引入少量Si可以显著改善TiN薄膜的抗磨性能，但薄膜的摩擦系数较高(室温下约0．8、400℃下约0．7)；随着Si含量的增加，Ti—Si—N薄膜的耐磨性能有所降低，其原因在于引入导电性较差的Si元素使得薄膜的组织变得疏松．
%K PCVD
%K Ti-Si-N
%K nano-structured thin film
%K friction and wear behavior<br>等离子体增强化学气相沉积（PCVD）
%K Ti—Si—N
%K 纳米薄膜
%K 摩擦磨损性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=2EC22A40D69A0ED4&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=EA389574707BDED3&iid=B31275AF3241DB2D&sid=DA4893B5F9885621&eid=A33A8FD1432A4C3E&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=4&reference_num=11