%0 Journal Article
%T Effect of Heat-treatment on Microstructure and Frictional Properties of GeSb2Te4 Thin Films<br>热处理对GeSb2Te4薄膜微观结构及其摩擦性能的影响
%A XIE Guo-xin
%A DING Jian-ning
%A FAN Zhen
%A FU Yong-zhong
%A ZHU Shou-xing
%A WAN Chun-lei
%A <br>解国新
%A 丁建宁
%A 范真
%A 付永忠
%A 朱守星
%A 万春磊
%J 摩擦学学报
%D 2006
%I 
%X 利用射频溅射法制备了GeSb2Te4薄膜并对其进行热处理,分析热处理前后样品的结晶情况,用纳米硬度计测定硬度,利用静电力显微镜表征样品的表面电势,采用原子力显微镜观察薄膜表面形貌,利用侧向力显微镜对比考察了在考虑相对湿度的情况下,热处理前后GeSb2Te4薄膜的粘附力和摩擦性能.结果表明:经过退火的沉积态GeSb2Te4薄膜发生从非晶相到fcc亚稳相再到hex稳定相转变;粘附力与表面粗糙度之间没有明显的对应关系,但与样品表面自由能和表面电势有一定关系;在低载荷下GeSb2Te4薄膜的摩擦力很大程度上受粘附力支配,而在高载荷下的摩擦力受犁沟影响显著;经过340 ℃退火GeSb2Te4薄膜由于具有层状结构,呈现出一定的润滑作用.
%K GeSb2Te4 films
%K heat-treatment
%K surface potential
%K adhesion
%K friction behavior<br>GeSb2Te4薄膜
%K 热处理
%K 表面电势
%K 粘附力
%K 摩擦性能
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=A60C383C2AE59027&yid=37904DC365DD7266&vid=96C778EE049EE47D&iid=0B39A22176CE99FB&sid=6270DC1B5693DDAF&eid=4BB057F167CF3A60&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=18