%0 Journal Article
%T Preparation and Nanotribological Behavior of Octadecene Reaction Film on Single Crystal Silicon Substrate<br>十八烯反应膜的制备及其微观摩擦学性能研究
%A ZHOU Jin-fang
%A REN Zhong-hai
%A YANG Sheng-rong
%A <br>周金芳
%A 任忠海
%J 摩擦学学报
%D 2002
%I 
%X 通过紫外激发在氢终止的单晶硅表面制得了十八烯的反应膜 ,并采用接触角测定仪、红外光谱仪、椭圆偏光仪及原子力显微镜等表征了薄膜的结构和摩擦学特性 .结果表明 ,在紫外光照射下 ,十八烯在硅表面通过键合生成有序反应膜 ,从而降低硅表面的粘着能和减小摩擦
%K octadecene
%K reaction film
%K hydrogen-terminated silicon
%K AFM<br>十八烯
%K 反应膜
%K 氢终止硅表面
%K AFM
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=5B699D8196CCC0F1&yid=C3ACC247184A22C1&vid=BC12EA701C895178&iid=94C357A881DFC066&sid=87545994EC2C1F12&eid=238BD7580EFCC5AE&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=1&reference_num=9