%0 Journal Article
%T 离子溅射TiC薄膜的深度分析和表面碳偏析
%A 朱勇
%J 科学通报
%D 1991
%I 
%X 离子溅射制膜是近年来发展起来的一种新技术。由于所获得的溅射层有许多优点,在防腐、耐磨、装饰和制备新材料等方面得到了越来越广泛的应用,对薄膜本身的研究也日趋活跃。本文用AES研究了铜箔上TiC溅射膜升温过程中的表面成分的偏析和深度方向成分的变化。升温过程中出现碳偏析现象,可能影响薄膜的摩擦学性能。
%K 离子溅射
%K TiC
%K 薄膜
%K 表面碳偏析
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=A0152A82839CE4B295513A4795861E63&yid=116CB34717B0B183&vid=933658645952ED9F&iid=708DD6B15D2464E8&sid=95780E43ADDDE2AA&eid=95780E43ADDDE2AA&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=0&reference_num=0