%0 Journal Article
%T 空心阴极(HCD)离子镀及其在工具工业中的应用(续完)
%A 小宫宗治
%J 摩擦学学报
%D 1983
%I 
%X 十、HCD反应沉积的氮化钛膜 HCD反应沉积氮化钛膜的镀膜条件可反映所镀氮化钛膜的色泽特征,如佐藤等人通过控制N_2、H_2的分压得到了各种颜色的膜。金色的膜经X线衍射分析可知是由Ti_2N或TiN+Ti_2N组成的。这种膜的硬度大于或等于2000公斤/毫米~2(DPHN)。 该膜的镀膜典型参数如下:氩气流为23厘米~3/分(标准温度、压强),氩分压为7.4×10~(-4)托,放电参数为40伏、80安培,靶距为14厘米,膜的典型沉积率为0.25微米/分。氮气
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=301FF0241BC2BF9C&yid=A7F20A391020FDEE&vid=38B194292C032A66&iid=0B39A22176CE99FB&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=0