%0 Journal Article
%T 空心阴极离子镀及其在工具工业中的应用(续)
%A 小宫宗治
%J 摩擦学学报
%D 1983
%I 
%X 七、HCD铬厚膜的性质 1.铬膜表面的观察 在改变基片电压的情况下,用HCD法将铬沉积在纯的多晶铁基片上。该膜的表面形貌采用扫描电子显微镜(SEM)进行观察。为了在观察膜表面的同时可观察膜的断裂面,以便估算膜的厚度,所以将样品弄弯到膜层断裂后进行观察。所观察的六个样品的镀膜条件为:基片温度20℃,沉积率0.2微米/分钟,基片电压分别为0伏、-10伏、-25伏、-50伏、
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=5D344E2AD54D14F8&jid=2F467A5C6371C830162AAA01D7DAD07A&aid=62D2637E0576DA25&yid=A7F20A391020FDEE&vid=38B194292C032A66&iid=CA4FD0336C81A37A&journal_id=1004-0595&journal_name=摩擦学学报&referenced_num=0&reference_num=0