%0 Journal Article
%T 双离子束溅射法生长MgO薄膜
%A 李贻杰
%J 科学通报
%D 1993
%I 
%X 氧化物薄膜近几年来受到了人们普遍的重视。MgO、SiO_2和ZrO_2等材料不仅可以用作各种电子器件中的绝缘层,还起到了隔离层的作用,可有效地阻止多层膜之间因互扩散造成的界面反应。迄今为止,实验已经证实许多材料都可作为很好的隔离层或多层膜中的绝缘层,包括 SrTIO_3、Y-ZrO_2、PrBa_2Cu_3O_7、Y_2O_3、CeO_2和MgO等。这些材料在不同的器件制备中具有不同的作用,可供选择。MgO是一种离子性很强的氧化物材料。属NaCl结构,溶点高达2800℃,介电常数为10,自由能最低的低指数解理面为{100}面,晶格常数
%K 薄膜
%K 离子束溅射
%K 外延生长
%K 氧化镁
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=736FAD9D34D707F59DECAE4C452ADB89&yid=D418FDC97F7C2EBA&vid=16D8618C6164A3ED&iid=E158A972A605785F&sid=51C74DF6A16DA45B&eid=51C74DF6A16DA45B&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=0&reference_num=1