%0 Journal Article
%T 立方氮化硼薄膜的脉冲等离子体室温生长
%A 闫鹏勋
%J 科学通报
%D 1995
%I 
%X 立方氮化硼是一种具有仅次于金刚石的高硬度、高的热传导率、低的热膨胀系数、良好的红外光学性能和化学稳定性极强的新材料.其综合性能可以和金刚石相比拟.它在金属、半导体、电子和光学材料研究方面具有良好的应用前景.
%K 氮化硼
%K 等离子体
%K 薄膜
%K 生长
%K 室温
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=6CF82805C8404B248783E5DF9C6EE4DA&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1371F55DA51B6E64&iid=94C357A881DFC066&sid=3081401A9FAB9CE2&eid=3081401A9FAB9CE2&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=1&reference_num=0