%0 Journal Article
%T 同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性
%A 伍历文
%J 科学通报
%D 1995
%I 
%X 随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射、色散元件的人工周期性多层膜的稳定性是一个值得研究的问
%K 多层膜
%K 同步辐射
%K 辐照
%K 稳定性
%K 硅
%K 钼
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=A5C0EF9EE19937E5D4D453FD66A81B78&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1371F55DA51B6E64&iid=5D311CA918CA9A03&sid=A67EE05E56DA7F45&eid=A67EE05E56DA7F45&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=1&reference_num=5