%0 Journal Article
%T Ge-SiO_2纳米镶嵌薄膜的制备及光吸收特征
%A 岳兰平
%J 科学通报
%D 1995
%I 
%X 半导体-绝缘体纳米颗粒镶嵌复合膜是由半导体纳米颗粒镶嵌在不相溶的介质基体中而形成的薄膜.由于它兼具纳米颗粒与薄膜的双重特点,表现出许多独特的光学特性,展示出这种新型固体薄膜材料越来越广泛的应用前景,所以逐渐形成当前材料科学、凝聚态物理研究中值得重视的一个新领域.锗是应用较广泛,最重要的元素半导体材料之一,研究锗纳米颗粒镶嵌复合膜的制备工艺,微观结构以及物理性能之间的关系和规律,有助于指导我
%K 纳米镶嵌薄膜
%K 光吸收特性
%K 薄膜
%K 二氧化硅
%K 锗
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=01BA20E8BA813E1908F3698710BBFEFEE816345F465FEBA5&cid=7C7E63796F062382A606A3A9833B8C05&jid=B40D4BA57FF46E45205A09B4DC283152&aid=11D7918E921AEB0FF5E3E5DB13EC7F6D&yid=BBCD5003575B2B5F&vid=1371F55DA51B6E64&iid=E158A972A605785F&sid=73648F51F187AC5E&eid=73648F51F187AC5E&journal_id=0023-074X&journal_name=科学通报&referenced_num=0&reference_num=1