%0 Journal Article
%T Phase transformation behaviour and kinetics of electrodeposition Ni-P amorphous alloys by X-ray analysis<br>Ni-P非晶薄膜晶化相与相变动力学的XRD分析
%A HONG Bo
%A JIANG Chuanhai
%A WANG Xinjian
%A WU Jiansheng
%A <br>洪波
%A 姜传海
%A 王新建
%A 吴建生
%J 金属学报
%D 2006
%I 
%X 用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为．通过定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度．结果表明, Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关．在晶化过程中出现了四种亚稳相即NiP,Ni2P,Ni12P5及Ni5P2．计算得到:亚稳相NiP,Ni2P及稳定相Ni3P的相变激活能分别为133±15,172±19及190±20 kJ／mol;单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的自扩散激活能．
%K Ni-P amorphous film
%K crystallization process
%K in suit XRD
%K activation energy
%K crystallinity<br>Ni-P非晶薄膜
%K 晶化过程
%K 原位XRD
%K 激活能
%K 结晶度
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=34FC50367EF91CC2&yid=37904DC365DD7266&vid=ECE8E54D6034F642&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=C230D48775108CE3&eid=6C3EA4F7B6E5F836&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=0&reference_num=10