%0 Journal Article
%T Characterization of Microstructure and Hardness of PCVD DepositedTi1-xAlx N Hard Coatings<br>PCVD制备Ti1-xAlxN硬质薄膜的结构与硬度
%A MA Shengli
%A XU Jian
%A JIE Wanqi
%A XU Kewei
%A M G J Veprek--Heijman
%A S Veprek
%A <br>马胜利
%A 徐健
%A 介万奇 徐可为
%A M. G. J. Veprek--Heijman
%A S. Veprek
%J 金属学报
%D 2004
%I 
%X 用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti1-xAlxN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜由3-10 nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时,硬度开始急剧下降;结构分析证实x小于0.83,Ti1-xAlxN薄膜是固溶强化;x=0.83,薄膜中出现六方氮化铝相(h-AlN).热稳定性实验表明,Ti1-xAlxN薄膜的纳米结构和硬度在N2环境下可以维持到900℃.
%K (Ti
%K Al)N hard coating
%K microstructure
%K hardness
%K thermal stability<br>(Ti
%K Al)N硬质薄膜
%K 微观结构
%K 硬度
%K 热稳定性
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=3EB6D4E180807645&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=1371F55DA51B6E64&iid=B31275AF3241DB2D&sid=B10D796AE1B3FEBD&eid=B7DE0F3CA34DA149&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=0&reference_num=17