%0 Journal Article
%T Study Of Al--O--N And Cr--O--N Films Deposited By Arc Ion Plating As Diffusion Barriers<br>电弧离子镀沉积Al(Cr)-O-N扩散阻挡层的研究
%A WANG Qimin
%A WU Yingna
%A JI Ailing
%A <br>王启民
%A 武颖娜
%A 纪爱玲
%J 金属学报
%D 2004
%I 
%X 采用电弧离子镀方法在高温合金DSM11基材上沉积Al-O-N和Cr-O-N薄膜，研究了不同O2，N2流量对薄膜相结构的影响以及高温下DSM11／NiCoCrAlY，DSM11／Al-O-N／NiCoCrAlY和DSM11／Cr-O-N／NiCoCrAlY体系的元素互扩散行为。实验结果表明，Al(Cr)-O-N薄膜均为多晶膜，分别具有α-Al2O3 六方AlN和Cr2O3 CrN的相结构，随着N2，O2流量的改变，两相的相对含量发生变化。在1050℃下氧化100h后，Al-O-N层阻挡基体与涂层间元素互扩散的作用优于Cr-O-N层。扩散阻挡层对涂层的氧化动力学影响不大。
%K Al-O-N
%K Cr-O-N
%K diffusion barrier layer
%K arc ion plating (AIP)<br>Al-O-N，Cr-O-N，扩散阻挡层，电弧离子镀
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=840A42223504E7DD&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=1371F55DA51B6E64&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=06EA2770E96C5402&eid=117F81797AB182FC&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=5&reference_num=13