%0 Journal Article
%T EFFECTS OF Ti DOPING ON THE STRUCTURE AND MAGNETIC PROPERTY OF Fe-N FILMS<br>掺杂Ti对Fe—N薄膜结构与磁性的影响
%A WANG Heying
%A JIANG Enyong
%A BAI Haili
%A WU Ping
%A LIU Mingsheng
%A <br>王合英
%A 姜恩永
%A 白海力
%A 吴萍
%A 刘明升
%J 金属学报
%D 1996
%I 
%X 用对向靶溅射仪制备出含多量Ｆｅ（１６）Ｎ２相的（Ｆｅ，Ｔｉ）－Ｎ薄膜，研究了掺杂Ｔｉ对Ｆｅ－Ｎ薄膜结构与磁性的影响，在溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜时加入适量的Ｔｉ可提高Ｆｅ－Ｎ薄膜中Ｆｅ（１６）Ｎ２相的含量．Ｔｉ含量（原子分数）在０—２５％时薄膜饱和磁化强度均高于纯Ｆｅ的值；Ｔｉ浓度为１０％时，薄膜磁化强度高达２．６８Ｔ，比纯Ｆｅ的饱和磁化强度值高２０％．
%K facing target sputtering
%K Fe16N2 thin film
%K Ti doping
%K magnetic property
%K structure<br>对向靶溅射
%K 掺杂
%K 磁性
%K 薄膜
%K 钛
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=B15281E45876614A4B09C895CB98B7E6&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=9971A5E270697F23&iid=708DD6B15D2464E8&sid=EB3DE2AA673AE431&eid=9E33BE6F309BC209&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=0&reference_num=1