%0 Journal Article
%T SURFACE ROUGHENING AND TEXTURE OF THE POLYCRYSTALLINE COLUMNAR Cu FILMS<br>多晶柱状Cu膜的表面粗化与织构
%A Jijun Yang
%A <br>杨吉军
%A 马 飞
%A 徐可为
%J 金属学报
%D 2006
%I 
%X 用磁控溅射工艺分别在Si和Al2O3衬底上沉积两种不同织构组分的多晶柱状Cu膜，基于动力学标度方法表征两种薄膜的表面粗化特征．结果表明，Cu（111）取向晶粒组分多的薄膜的生长指数较大、表面粗化速率较快．对于较低温度下沉积的多晶柱状薄膜，基于其晶粒几何形态和弱化的晶界限制的特点，提出了一种表面粗化机制，认为薄膜的表面粗化主要依赖于其晶粒表面的粗化过程，而薄膜织构决定了薄膜表面粗化速率．
%K Cu film
%K surface roughening
%K texture
%K dynamic scaling<br>Cu膜
%K 表面粗化
%K 织构
%K 动力学标度
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=8E48EC90E8D8B199&yid=37904DC365DD7266&vid=ECE8E54D6034F642&iid=59906B3B2830C2C5&sid=603BC00D7DC5FEAC&eid=72EB001A9B3C78CE&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=0&reference_num=18