%0 Journal Article
%T THE STRUCTURE, PROPERTIES AND THERMAL STABILITY OF THE NANOCRYSTALLINE Fe-Ti-N SOFT MAGNETIC FILMS<br>纳米晶软磁薄膜Fe-Ti-N的结构、磁学性能和热稳定性研究
%A LI Dan
%A GU Yousong
%A CHANG Xiangrong
%A LI Fushen
%A QIAO Lijie
%A TIAN Zhongzhuo
%A FANG Guangdan
%A SONG Qingshan
%A <br>李丹
%A 顾有松
%A 常香荣
%A 李福燊
%A 乔利杰
%A 田中卓
%A 方光旦
%A 宋庆山
%J 金属学报
%D 2003
%I 
%X 在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备了厚为630－780nm的e-Ti-N薄膜。结果表明：当膜成分（原子分数，％，下同）在Fe-3.9Ti-8.8N和Fe-3.3Ti-13.5N范围内，薄膜由α′和Ti2N沉淀组成，磁化强度4πMs超过纯铁，最高可达2.38T；而矫顽力Hc下降为89A／m，可以满足针对1.55Gb/cm^2高存储密度的GMR／感应式复合读写磁头中写入磁头的需要，N原子进入α-Fe使α′具有高饱和磁化强度；Ti的加入，阻止α′→α γ′的分解，稳定了强铁磁性相α′，是Fe-Ti-N具有高饱和磁化强度的原因。由于由晶粒度引起的对Hc的影响程度Hc^D与晶粒度D有以下关系：Hc^D∝D^6，晶粒度控制非常重要。N原子进入α-Fe点阵的八面体间隙，引起极大的畸变，使晶粒碎化。提高溅射功率也使晶粒度下降。两者共同作用，能使晶粒度下降到约14nm，使Hc下降。晶界是择优沉淀地点，在α′晶界上沉淀Ti2N能起钉扎作用，阻止晶界迁移，使纳米晶α′不能长大。薄膜的结构和Hc的稳定温度不低于520℃。
%K Fe-Ti-N
%K nano-soft magnetic film
%K magnetic field heating treatment
%K high satura- tion magnetigation<br>结构
%K 磁学性能
%K 热稳定性
%K Fe－Ti－N纳米软磁薄膜
%K 磁场热处理
%K 高饱和磁化强度
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=B061E1135F1CBDEE96CD96C109FEAD65&aid=CB21545D6B488B99&yid=D43C4A19B2EE3C0A&vid=7C3A4C1EE6A45749&iid=0B39A22176CE99FB&sid=02DC3A182A5530DF&eid=3D9746C06EC12B45&journal_id=0412-1961&journal_name=金属学报&referenced_num=0&reference_num=20