%0 Journal Article
%T Two-stage oxidation of wastewater containing organic silicon by Fenton reagent<br>二级Fenton氧化高浓度有机硅废水研究
%A Wang Yunbo
%A Tan Wanchun
%A Zheng Sixin
%A Lang Youming
%A Li Juan
%A <br>王云波
%A 谭万春
%A 郑思鑫
%A 稂友明
%A 李娟
%J 环境工程学报
%D 2010
%I 
%X 采用二级Fenton氧化技术对可生化性差的高浓度有机硅废水进行处理，考察了不同因素对COD去除率的影响，对比了一级氧化和二级氧化的效果。结果表明对于COD为9 600 mg/L的高浓度有机硅废水，pH为3，［H2O2］/［Fe2+］＝2∶1为最佳的反应条件，COD去除率随着H2O2的投加量的增大先增大而后减小， 每200 mL水样中先投加20％的硫酸亚铁12 mL，然后分2次投加30％的H2O2 各4 mL， 氧化完成后调整pH值为7～8静止沉淀，COD去除率达89.2％。对于某绝缘电器厂的生产废水经二级Fenton氧化处理后，出水有机物浓度显著降低，可生化性提高，Fenton二级氧化可以作为高浓度有机硅废水的预处理工艺。
%K high concentrated organic wastewater
%K organic silicon
%K two-stage oxidation
%K Fenton<br>高浓度有机废水
%K 有机硅
%K 二级氧化
%K Fenton
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=3FF3ABA7486768130C3FF830376F43B398E0C97F0FF2DD53&cid=92E6F4267FD4CBCB51B1E49E014D8054&jid=3567BD61129AA59043F5DE01F8815DB5&aid=B55B4C19349EE8EAD7647D1B479127A1&yid=140ECF96957D60B2&vid=E158A972A605785F&iid=E158A972A605785F&sid=FE17D37BFC90FA6B&eid=5E191A234CD3698F&journal_id=1673-9108&journal_name=环境工程学报&referenced_num=1&reference_num=8