%0 Journal Article
%T Structural and Photoluminescence Properties of ZnO Films Grown by Pulsed Laser Deposition Technique<br>用脉冲激光沉积方法制备的ZnO薄膜的结构及光致发光特性
%A LI Shao-lan
%A zhanglichun
%A zhang zhongjun
%A huang ruizhi
%A <br>李少兰
%A 张立春
%A 张忠俊
%A 黄瑞志
%J 红外
%D 2012
%I 
%X 在从室温到800 ℃的温度范围内，用脉冲激光沉积方法在Al2O3(0001)衬底上制备了ZnO薄膜。采用X射线衍射仪、原子力显微镜以及荧光光谱仪分别研究了衬底温度对ZnO薄膜表面形貌、结晶质量和光致发光特性的影响。X射线衍射仪和原子力显微镜的结果表明，当衬底温度从室温升高到400 ℃时，ZnO薄膜的结构及结晶质量逐渐提高，而当衬底温度超过400 ℃时，其结构和结晶质量变差；在400 ℃下生长的ZnO薄膜具有最佳的表面形貌和结晶质量。室温光致发光的测量结果表明，400 ℃下生长的ZnO薄膜的紫外发光强度最强，且发光波长最短(386 nm)。
%K ZnO thin film
%K PLD
%K substrate temperature
%K photoluminescence<br>ZnO薄膜
%K 激光脉冲沉积
%K 衬底温度
%K 光致发光
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=3723000AE493FCE650601982177048B1&aid=291564C791BE9689B3B2206B4E597160&yid=99E9153A83D4CB11&vid=27746BCEEE58E9DC&iid=B31275AF3241DB2D&sid=59906B3B2830C2C5&eid=7801E6FC5AE9020C&journal_id=1672-8785&journal_name=红外&referenced_num=0&reference_num=17