%0 Journal Article
%T Effect of Sputtering Atmosphere on the Structure and Properties of Vox Films<br>溅射气氛对VOx薄膜结构及性能的影响
%A FANG Guang-zhi
%A LI He-qin
%A SHEN Hong-xue
%A SONG Ze-run
%A <br>方广志
%A 李合琴
%A 沈洪雪
%A 宋泽润
%J 红外
%D 2008
%I 
%X 溅射总气压一定,通过改变氧氩气体的比例,用射频磁控反应溅射法在玻璃衬底上制备VOx薄膜.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)、QJ31单臂电桥等测试了不同氧氩比例对VOx薄膜的晶体结构、表面形貌、成分和电阻的影响.测试分析结果表明,氧氩比是影响VOx薄膜结构及性能的重要因素.在我们的实验条件下,最佳氧氩比为2∶25,电阻温度系数为-2.87%/℃.
%K VO_x films
%K RF magnetron reactive sputtering
%K coefficient of resistance vs temperature
%K thermochromic material<br>VOx薄膜
%K 射频磁控反应溅射
%K 电阻温度系数
%K 热致变色材料
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=3723000AE493FCE650601982177048B1&aid=06DB3FD38D4DF278B7BD2CAF4094888F&yid=67289AFF6305E306&vid=771469D9D58C34FF&iid=9CF7A0430CBB2DFD&journal_id=1672-8785&journal_name=红外&referenced_num=0&reference_num=10