%0 Journal Article
%T Infrared Spectrometric Ellipsometric Properties of MPCVD Diamond Thin Films<br>MPCVD金刚石薄膜的红外椭偏光学性能研究
%A SU Qing-feng
%A LI Dong-min
%A SHI Wei-min
%A WANG Lin-jun
%A XIA Yi-ben
%A <br>苏青峰
%A 李东敏
%A 史伟民
%A 王林军
%A 夏义本
%J 红外
%D 2010
%I 
%X 椭圆偏振光谱法是一种非破坏性光谱技术。为了获得微波等离子体化学汽相沉积(MPCVD)金刚石薄膜的最佳沉积条件，用红外 椭圆偏振光谱仪对MPCVD金刚石薄膜的红外光学性能进行了表征测量，并分析了衬底温度和反应室的压强对金刚石 薄膜的红外光学性质的影响。当甲烷浓度不变，衬底温度为750℃，反应室的压强为4.0kPa时，金刚石膜的红外椭偏光学性质达到最 佳，其折射率的平均值为2.393。研究结果表明，金刚石薄膜的光学性能与薄膜质量密切相关，同时也获得了最佳的金刚石薄膜工艺 条件。
%K infrared spectroscopic ellipsometry
%K optical properties
%K refractive index
%K diamond thin films<br>红外椭偏，光学性能，折射率，金刚石薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=3723000AE493FCE650601982177048B1&aid=7CEE987418FACF6A6474CBA727391BED&yid=140ECF96957D60B2&vid=4AD960B5AD2D111A&iid=708DD6B15D2464E8&sid=708DD6B15D2464E8&eid=F3583C8E78166B9E&journal_id=1672-8785&journal_name=红外&referenced_num=0&reference_num=0