%0 Journal Article
%T ZnS Thin Film Prepared on Porous Si Substrate and Its Optical Properties<br>在多孔硅衬底上制备的ZnS薄膜及其光学性能
%A Wang Caifeng
%A <br>王彩凤
%J 红外
%D 2010
%I 
%X 用脉冲激光沉积（PLD）方法在多孔硅（Ps）衬底上沉积了ZnS薄膜。用x射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、荧光分光光度计分别研究了ZnS薄膜的晶体结构、表面形貌及光学性能。结果表明，ZnS薄膜呈立方相晶体结构，沿β-ZnS（111）晶向择优取向生长；经过300℃真空退火30min后，ZnS薄膜的XRD衍射峰强度增大，表面变得粗糙，在可见光区的平均透射率达到80％以上，适合作太阳能电池过渡层、红外增透膜、红外窗口和头罩等。在退火后的ZnS／PS复合膜体系的光致发光谱（PL）中，除了高能端ZnS的蓝光发射和低能端Ps的红光发射外，在光谱中间550nm附近出现了一个新的绿光发射，这归因于ZnS薄膜退火过程中形成的缺陷能级而产生的缺陷中心发光。根据三基色叠加的原理将ZnS的蓝、绿光与Ps的红光叠加在一起后，ZnS／PS复合膜体系呈现出了较强的白光发射，这为固态白光发射器件的实现开辟了一条新的捷径。
%K optical property
%K white light
%K photoluminescence
%K ZnS thin film
%K porous Si<br>光学性能
%K 白光
%K 光致发光
%K ZnS薄膜
%K 多孔硅
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=3723000AE493FCE650601982177048B1&aid=773DC194729219060A723F6896FFF2CE&yid=140ECF96957D60B2&vid=4AD960B5AD2D111A&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=BCA2697F357F2001&eid=659D3B06EBF534A7&journal_id=1672-8785&journal_name=红外&referenced_num=0&reference_num=15