%0 Journal Article
%T MICROSTRUCTURE OF CdS FILMS PREPARED WITH CHEMICAL PYROLYSIS DEPOSITION<br>用化学热解沉积法制备硫化镉薄膜的微结构
%A Abstract
%A <br>ChaDeoKjoon
%A KimSunmi
%A 黄宁康
%A 刘金蓉
%A 陈剑碹
%J 红外与毫米波学报
%D 2004
%I Science Press
%X 在载玻片或ITO涂覆的玻璃上采用化学热解法沉积CdS固体薄膜，沉积温度在350-540℃之间，部分制备的CdS薄膜进行200-600℃的退火热处理，由SEM，AFMT和XRD分析测量退火热处理前后的CdS薄膜的微观结构，结果表明，沉积温度低于540℃以下制备的CdS薄膜具有类六方结构相当于540℃沉积的CdS薄膜的晶料尺寸依赖于沉积温度及不同基体的情况也在本文中进行了讨论。
%K chemical pyrolysis deposition
%K CdS films
%K microstructure<br>化学热解沉积
%K 硫化镉薄膜
%K 微结构
%K 沉积温度
%K X射线衍射分析
%K 退火处理
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=F4AAB0410EEE50BE&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=EA389574707BDED3&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=CA4FD0336C81A37A&eid=94C357A881DFC066&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=0&reference_num=8