%0 Journal Article
%T Low-temperature deposition of SiO2 nanophotonic film<br>等离子体辅助电子束蒸发低温制备SiO2纳光子薄膜
%A SHENG Ming-Yu
%A ZHAO Yuan
%A LIU Fu-Qiang
%A HU Qiao-Duo
%A ZHENG Yu-Xiang
%A CHEN Liang-Yao
%A <br>盛明裕
%A 赵源
%A 刘富强
%A 胡巧多
%A 郑玉祥
%A 陈良尧
%J 红外与毫米波学报
%D 2011
%I Science Press
%X SiO2纳光子薄膜在光伏领域、纳光子和微电子学领域里有着广泛的应用.采用等离子体辅助电子束蒸发方法在低温条件下制备SiO2/Si纳光子薄膜样品,通过椭圆偏振光谱分析法研究薄膜光学性质随3种工艺条件(生长速率、衬底温度和射频等离子辅助功率)的变化规律,获得了薄膜的机械、化学和光学性能优于传统方法的纳光子薄膜工艺制备条件.
%K plasma assistant
%K electron beam evaporation
%K nanophotonic film<br>等离子体辅助
%K 电子束蒸发
%K 纳光子薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=4CEA2113DCD5129E8D82DBB0E0F51D25&yid=9377ED8094509821&vid=340AC2BF8E7AB4FD&iid=38B194292C032A66&sid=FE4C96E058BB2280&eid=6A73B36E85DB0CE9&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=0&reference_num=0