%0 Journal Article
%T OPTICAL PROPERTIES OF PZT AMORPHOUS THIN FILMS PREPARED BY RF MAGNETRON SPUTTERING<br>磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究
%A HU Zhi-Gao
%A LAI Zhen-Quan
%A HUANG Zhi-Ming
%A WANG Gen-Shui SHI Fu-Wen
%A CHU Jun-Hao
%A <br>胡志高
%A 赖珍荃
%A 黄志明
%A 王根水
%A 石富文
%A 褚君浩
%J 红外与毫米波学报
%D 2004
%I Science Press
%X 采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3(PZT)(x=0．52)非晶薄膜，并测量了200～1100nm的紫外．可见．近红外透射光谱．基于薄膜的结构和多层结构的透射关系，发展了仅有6个拟合参数的光学常数计算模型．利用该模型，可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度，得到折射率的最大值为2．68，消光系数的最大值为0．562，拟合薄膜厚度为318．1nm．根据Tauc′s法则，得到PZT非晶薄膜的直接禁带宽度为3．75eV．最后，利用单电子振荡模型成功地解释了薄膜的折射率色散关系．
%K PbZr
%K xTi
%K 1-xO
%K 3
%K amorphous thin films
%K the refractive index
%K the band gap<br>磁控溅射法
%K PZT非晶薄膜
%K 禁带宽度
%K 折射率
%K 透射率
%K 消光系数
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=6C7C34406189109A&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=EA389574707BDED3&iid=38B194292C032A66&sid=7EBE588F611589FC&eid=C1A3964F201D34D7&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=1&reference_num=14