%0 Journal Article
%T 用于改善PtSi红外焦平面阵列器件响应特性的长焦距GaAs微透镜阵列器件的制作研究(英文)
%A 何苗
%A 易新建
%A 程祖海
%A 刘鲁勤
%A 王英瑞
%J 红外与毫米波学报
%D 2001
%I Science Press
%X 提出了一种新的曲率补偿法用于长焦距微透镜阵列的制作。扫描电子显微镜 ( SEM)显示微透镜阵列为表面极为平缓的方底拱形阵列 ,表面探针测试结果显示用曲率补偿法制作的微透镜的焦距可达到 3 861.70 μm,而常规光刻热熔法很难制作出焦距超过 2 0 0μm的相同尺寸的微透镜阵列。微透镜阵列器件与红外焦平面阵列器件在红外显微镜下对准胶合 ,显著改善了红外焦平面阵列器件的响应特性
%K GaAs
%K 微透镜阵列
%K 离子束刻蚀
%K 组合器件
%K 红外焦平面阵列器件
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=632F8F04924284318C488DEF43591CF9&yid=14E7EF987E4155E6&vid=A04140E723CB732E&iid=94C357A881DFC066&sid=4AD4BA66429F5627&eid=90612DF06FCE4D55&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=0&reference_num=0