%0 Journal Article
%T PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF THERMALLY SENSITIVE VANADIUM OXIDE FILMS<br>氧化钒热敏薄膜的制备及其性质的研究
%A 周进
%A 周进
%A 茹国平
%A 茹国平
%A 李炳宗
%A 李炳宗
%A 梁平治
%J 红外与毫米波学报
%D 2001
%I Science Press
%X 报道一种制备氧化钒热敏薄膜的新方法.采用离子束溅射V2O5粉末靶淀积和氮氢混合气体热处理相结合的薄膜技术,可制备热敏性能较好的低价氧化钒薄膜VOx(x＜2.5).对不同温度退火后氧化钒薄膜在10～100℃范围内测定了薄层电阻随温度的变化,得到的电阻温度系数(TCR)值为(-1～-4)%K-1.研究结果表明通过这种方法可在较低温度下制备氧化钒薄膜,这种薄膜具有较低的电阻率和较高的TCR值,可作为非致冷红外微测辐射热计的热敏材料.
%K 氧化钒
%K 非致冷红外微测辐射热计
%K 离子束溅射
%K 电阻温度
%K 系数
%K 氮氢退火.
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=D32FFF706CED0DC3&yid=14E7EF987E4155E6&vid=A04140E723CB732E&iid=E158A972A605785F&sid=6490F0E20C4B41AD&eid=AF507FDD66D991DA&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=1&reference_num=10