%0 Journal Article
%T 用光热偏转光谱技术测量a-Si:H/a-SiN_x:H多层膜的能隙态密度
%A 朱美芳
%J 红外与毫米波学报
%D 1987
%I Science Press
%X 用光热偏转光谱技术测量了不同a-Si:H层厚度的a-Si:H/a-SiN_x:H多层膜(超品格)材料的吸收光谱,求出多层膜材料的隙态密度及其随a-Si:H层厚度的变化,估算出界面态密度为～5×10~(11)cm~(-2)eV~(-1),最后估算了隙态密度的计算误差。
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=D3B4F771D1A06062008B4D0A2EF05996&aid=8C78A537C436DBC19CBE2BB4B00066A6&yid=9C2DB0A0D5ABE6F8&vid=B31275AF3241DB2D&iid=E158A972A605785F&journal_id=1001-9014&journal_name=红外与毫米波学报&referenced_num=0&reference_num=0