%0 Journal Article
%T 含卤高聚物记录材料的研究——不同共聚单体对紫外光敏性的影响
%A 陈柳生
%A 师如光
%J 高分子学报
%D 1982
%I 
%X 研究了与偏二溴乙烯(VDBr,M_1)共聚的不同单体(M_2)——丙烯酸甲酯(MA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)和苯乙烯(St)的性质和共聚物的序列分布对记录材料紫外光敏性的影响。结果表明,含St的紫外光敏性最高,含MA的较差。对同一类共聚物记录材料而言,光敏性与共聚物的序列分布,主要是P_2(M_1M_2)有对应关系。本文还报道了VDBr与MA、MMA及St在55±0.2℃以偶氮二异丁腈为引发剂的自由基共聚反应竞聚率(r)分别为,VDBr-MA:r_1=0.72±0.05,r_1=0.72±0.05;VDBr-MMA:r_1=0.50±0.04,r_2=1.74±0.04;VDBr-St:r_1=0.40±0.04,r_2=1.12±0.04。
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=6579068328FE643F&jid=15971983683C7643EE80F1CE621DEB60&aid=FF7D773B477356AB&yid=3F3D540C9B7906DE&iid=0B39A22176CE99FB&sid=58F693790F887B3B&eid=E22B6B8FE86DD8F9&journal_id=1000-3304&journal_name=高分子学报&referenced_num=0&reference_num=0