%0 Journal Article
%T Design of Digital Gray-tone Lithography Lens<br>数字灰度光刻成像物镜设计
%A CHEN Ming-yong
%A DU Jing-lei
%A GUO Xiao-wei
%A MA Yan-qing
%A WANG Jing-quan
%A <br>陈铭勇
%A 杜惊雷
%A 郭小伟
%A 马延琴
%A 王景全
%J 光子学报
%D 2009
%I 
%X 为了研究数字灰度光刻成像系统中栅格效应对像质的影响.在成像系统优化参量已有的研究基础上,综合考虑工作效率、光刻准确度、加工制造成本等因素,设计了一种能够有效消除数字灰度光刻成像栅格效应的光刻物镜.此光刻物镜技术指标为,数值孔径NA＝0.3,工作波长λ＝442 nm,倍率10×,分辨率R≤1.2 μm,焦深4 μm,且镜片数量少,光学加工、光学校装公差要求低.结果表明,该镜头完全满足数字灰度光刻高质量成像的需要.
%K Maskless lithography
%K DMD
%K Lithography lens
%K Optical designing<br>无掩模光刻
%K 反射光调制器件
%K 光刻物镜
%K 光学设计
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=A184E77D4569F9BB74D67D6EB089FF2E&yid=DE12191FBD62783C&vid=16D8618C6164A3ED&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=2B5DE8A23DCEED39&eid=2F56B21F91C9B05B&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=10