%0 Journal Article
%T Research on Acquisition of Low Gradient Photoresist Gratings<br>低陡度光刻胶光栅槽形研究
%A LIU Quan
%A WAN Hua
%A WU Jian-hong
%A CHEN Xin-rong
%A LI Chao-ming
%A <br>刘全
%A 万华
%A 吴建宏
%A 陈新荣
%A 李朝明
%J 光子学报
%D 2008
%I 
%X 为控制全息光刻胶光栅槽形,从研究显影时间、显影液温度等对光刻胶特性曲线的影响出发,采用计算机模拟和实验方法,制作出底部占宽比30%左右,陡度65°左右的低陡度光刻胶光栅掩模.研究发现:启动曝光量随显影时间的延长而减小,光刻胶特性曲线线性部分的斜率随着显影时间的增加而增加;显影液温度高的光刻胶启动曝光量大,其特性曲线线性部分的斜率也较大.这决定了制作低陡度光刻胶光栅掩模需要使用非1:1的干涉曝光,以及必须采用较低温度的显影液进行显影处理.最终选用1:7的干涉曝光和15℃的显影液.
%K Diffractive optics
%K Holography
%K Photoresist grating masks
%K Control of the profile<br>衍射光学
%K 全息
%K 光刻胶光栅掩模
%K 槽形控制
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=06A635B0746F1F4CC4A58A6B88C121D6&yid=67289AFF6305E306&vid=42425781F0B1C26E&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=C429879D42743822&eid=B754280783395EEA&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=3&reference_num=7