%0 Journal Article
%T The Effect of ion Current Density in ion Beam Assisted Deposition<br>离子辅助沉积中离子束流密度的作用
%A Shanghai Institute of Optics
%A Fine Mechanics
%A The Chinese Academy of Sciences
%A Shanghai
%A <br>张大伟
%A 洪瑞金
%A 范树海
%A 王英剑
%A 邵建达
%A 范正修
%J 光子学报
%D 2005
%I 
%X 测量了End-Hall离子源在不同条件下的离子束流密度，在不同离子束流密度下进行了心离子辅助沉积ZrO2薄膜的实验，研究了离子束流密度对薄膜折射率、晶相的影响．根据动量传递模型分析了离子束流密度对薄膜折射率的作用；根据热尖峰理论证明了一定条件下离子束流密度不会影响薄膜晶体结构。
%K Ion beam assisted
%K Ion current density
%K Thermal-spike
%K Crystal phase<br>离子辅助
%K 离子束流密度
%K 热尖峰
%K 晶相
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=53992F49808EC9C7&yid=2DD7160C83D0ACED&vid=339D79302DF62549&iid=38B194292C032A66&sid=F18BA6286A889C1C&eid=03436AC72A659ACA&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=12&reference_num=17