%0 Journal Article
%T THE STRESS OF OXIDE SCALE FORMED ONTi5621S AND Nd DOPED Ti5621S ALLOYS<br>钛合金5621S及含钕钛合金5621S氧化膜的应力
%A LI Meishuan
%A LI Tiefan
%A <br>李美栓
%A 李铁藩
%J 腐蚀科学与防护技术
%D 1992
%I 
%X 测量了含钕及不含钕两种钛合金5621S于600-800℃在氧气中氧化条件下氧化膜的生长应力和于800℃氧化不同时间后氧化膜的残余应力。通过氧化膜的生长应力、热应力、残余应力大小的比较,表明Ti5621S合金中添加钕能降低氧化膜的生长应力。含钕及不含钕两种钛合金氧化膜的生长应力和热应力同数量级。于冷却过程中若钛合金5621S氧化膜发生显著破裂,由于应力充分释放,其残余应力反较含钕的钛合金5621S氧化膜的低。
%K tress in oxide scale
%K residual stress
%K RE Nd
%K Ti5621S alloy
%K high temperature oxidation<br>钛合金
%K 钕
%K 氧化膜
%K 应力
%K 高温氧化
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=AB188D3B70B071C57EB64E395D864ECE&jid=9F6E6EC8BA5BB62698F6640073DDD6E1&aid=A178B0C30E53ABBA&yid=F53A2717BDB04D52&vid=E158A972A605785F&iid=0B39A22176CE99FB&sid=08805F9252973BA4&eid=C36EC077A8A90308&journal_id=1002-6495&journal_name=腐蚀科学与防护技术&referenced_num=0&reference_num=7