%0 Journal Article
%T THE CHARACTERISATION OF DC REACTIVE MAGNETRON SPUTTERED ZNO FILMS<br>紫外光电材料ZnO的反应溅射制备及研究
%A Yang Xiaodong
%A Zhang Jingwen
%A Zou Wen
%A Hou Xun
%A <br>杨晓东
%A 张景文
%A 邹玮
%A 侯洵
%J 光子学报
%D 2002
%I 
%X 采用直流反应溅射法分别在Si( 1 1 1 ) ,Si( 0 0 1 ) ,及K4玻璃衬底上制备ZnO薄膜 ,研究了氧氩比、衬底温度以及退火处理对于晶体结晶质量的影响 ,发现生长过程中的退火处理提高了薄膜质量和晶面取向 通过优化生长条件 ,在衬底温度为 35 0℃ ,氧氩比为 1∶2的条件下生长出了XRD半高宽为 0 1°、C轴取向高度一致的ZnO薄膜
%K Zinc oxide films
%K DC reactived magnetron sputering
%K XRD spectra<br>紫外光电材料
%K 制备
%K ZnO
%K 直流反应溅射
%K XRD
%K 氧化锌
%K 薄膜
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=4E25866490CCD758&yid=C3ACC247184A22C1&vid=4AD960B5AD2D111A&iid=F3090AE9B60B7ED1&sid=DB29DCDE63A11F6A&eid=F5F3E44D7A429F27&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=18&reference_num=18