%0 Journal Article
%T A METHODOLOGY OF TECHNOLOGY MAPPING FOR MULTI-TARGET IN VHDL HIGH LEVEL SYNTHESIS SYSTEM<br>VHDL高级综合中的多目标工艺映射方法
%A Ma Cong
%A Yang Xun
%A Liu Mingye
%A <br>马聪
%A 杨勋
%A 刘明业
%J 电子与信息学报
%D 2000
%I 
%X 从国内情况看,高级综合系统的目标,即后端CAD版图工具可分为两大类。一类只能接收门级网表;而另一类其单元库较为完备,往往能接收较大颗粒度的宏单元。针对这种情况,本文研究高级综合结果与后端工艺的衔接问题。提出多目标多层次工艺映射(MLTMMT)策略,旨在与多种工艺衔接。解决实现该策略的有关问题:(1)给出多目标工艺映射方法的形式化描述;(2)给出在多个层次上的多目标工艺映射方法;(3)分析研究多种工艺库,提出一种面积和延时的线性模型;(4)给出RTL通用元件集;(5)建立多种工艺VHDL模拟模型。所实现的系统已完成与三种工艺衔接,验证了本文工作。
%K High level synthesis
%K Technology mapping
%K VHDL
%K High level technology mapping
%K Multi-level technology mapping for multi-target<br>高级综合
%K 工艺映射
%K VHDL
%K 高层次工艺映射
%K 多目标多层次工艺映射
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=EFC0377B03BD8D0EF4BBB548AC5F739A&aid=8C770D5273904B0B&yid=9806D0D4EAA9BED3&vid=BC12EA701C895178&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=CA4FD0336C81A37A&eid=94C357A881DFC066&journal_id=1009-5896&journal_name=电子与信息学报&referenced_num=0&reference_num=7