%0 Journal Article
%T 变折射率光学发展概况
%A 黄改霞
%A 谢碧华
%J 光子学报
%D 1985
%I 
%X 一、概况 目前,变折射率光学设计理论发展较快,变折射率光学材料还在积极地发展中,以求适应实用的要求。制作变折射率材料的新方法不断出现,已发现的方法在继续研究、改进,以求提高产品的产量,质量以及降低成本。测量变折射率材料特性的方法比较多,也在不断改进,目前测量方面采用的方法有交流干涉仪、全息干涉法、剪切干涉法和数字塔尔博脱干涉测量技术等,这些方法在测量折射率剖面和分布、折射率光学元件象差等方面可达到一定的精度。梯度光学元件和自聚焦透镜的应用很广泛,各种元、
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=BD84DEC92575358E874A31568CCF72F1&yid=74E41645C164CD61&vid=FC0714F8D2EB605D&iid=E158A972A605785F&sid=B6DA1AC076E37400&eid=BFE7933E5EEA150D&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=0&reference_num=0