%0 Journal Article
%T 模压全息衍射效率的分析
%A 张文碧
%A 杨齐民
%J 光子学报
%D 1996
%I 
%X 本文指出光刻胶所记录到的是浮雕型相位光栅，经历了电铸、模压转移到ＰＥＴ薄膜上，在此过程中光栅刻蚀深度的转移是非线性的，即深度浅的方法，其最后结果将更浅，甚至丢失。由于散射物体散斑的光强分布是严重不均匀的，故光刻胶上记录下各散斑的光栅刻蚀深度也严重不均匀，经过电铸、模压后，进一步加重了这种不均匀性，使得模压片的衍射效率降低，解决的办法是尽可能地使各个散斑上的光栅刻蚀深度趋于均匀化。
%K 散斑光强分布
%K 光栅蚀深度
%K 衍射效率
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=6E709DC38FA1D09A4B578DD0906875B5B44D4D294832BB8E&cid=47EA7CFDDEBB28E0&jid=9F6139E34DAA109F9C104697BF49FC39&aid=B7F911EA5CA81D1EFED83115485A0A59&yid=8A15F8B0AA0E5323&vid=C5154311167311FE&iid=DF92D298D3FF1E6E&sid=DB7B2C790D19BE6E&eid=5DD21DF25EF52D4A&journal_id=1004-4213&journal_name=光子学报&referenced_num=4&reference_num=7