%0 Journal Article
%T Absorption property in visible region of TiO2-xNx films prepared by reactive sputtering<br>反应溅射TiO2-xNx膜的可见光吸收性能
%A ZHAO Ming FANG Ling ZHANG Gong ZHUANG Darning
%A <br>赵明
%A 方玲
%A 张弓
%A 庄大明
%J 材料研究学报
%D 2004
%I 
%X 用中频交流反应磁控溅射方法制备了N掺杂的TiO2薄膜.利用光电子能谱(XPS)对薄膜的成分进行了分析,并研究了薄膜的可见光吸收性能.结果表明:反应气体中N2的质量分数是影响薄膜中Ti-N键的主要因素;在N2气氛中380℃退火有利于提高N掺杂的含量;厚度的增加使薄膜的吸收性能在紫外到可见光区都有提高;含N量为1.5%的TiO2-xNx薄膜吸收限由TiO2薄膜的387nm红移至441nm.
%K inorganic non-metallic materials
%K TiO2 films
%K nitrogen-doping
%K mid-frequency alternative reactive magnetron sputtering
%K absorption in visible region<br>无机非金属材料
%K TiO2薄膜
%K N掺杂
%K 中频交流反应磁控溅射
%K 可见光吸收
%K 反应溅射
%K 可见光吸收性能
%K sputtering
%K films
%K region
%K visible
%K property
%K 红移
%K 吸收限
%K 厚度
%K 含量
%K 退火
%K 因素
%K 影响
%K 质量分数
%K 反应气体
%K 结果
%K 研究
%K 分析
%K 膜的成分
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=C101C4C04993B4D94FCD8446E6CBEB3B&aid=FE27FA9B40C8F76C&yid=D0E58B75BFD8E51C&vid=13553B2D12F347E8&iid=CA4FD0336C81A37A&sid=6270DC1B5693DDAF&eid=4BB057F167CF3A60&journal_id=1005-3093&journal_name=材料研究学报&referenced_num=5&reference_num=15