%0 Journal Article
%T The hardess degradation of naocomposite Ti-Si-N coatings induced by oxygen impurity and its mechanisms<br>氧杂质致Ti-Si—N薄膜高硬度损失的机理
%A S Veprek
%A MA Dayan
%A MA Shengli
%A XU Kewei
%A XUE Qikun
%A S Veprek
%A <br>马大衍
%A 马胜利
%A 徐可为
%A 薛其坤
%A S.Veprek
%J 材料研究学报
%D 2008
%I 
%X 基于纳米复合Ti-Si-N薄膜硬度对界面相微结构及微尺度变化极为敏感的实验事实,定量表征了薄膜的硬度与氧杂质含量的关系.结果表明,与高纯度薄膜40-55 GPa高硬度比较,1%-1.5%的氧杂质含量导致薄膜的硬度下降到30 GPa左右.根据纳米晶界面原子模型和实验结果,氧杂质与纳米尺度界面交互作用所引发的微尺度缺陷是硬度下降的诱因,晶界面的氧杂质密度是薄膜高硬度损失程度的决定因素,单个纳米晶周围的氧杂质覆盖度达到10个原子以上时,薄膜的硬度只能达到30 GPa.
%K 材料科学基础学科
%K 纳米复合薄膜
%K 硬度
%K 氧杂质
%K 氧杂质
%K 薄膜
%K 高硬度
%K 损失程度
%K 机理
%K mechanisms
%K impurity
%K oxygen
%K induced
%K coatings
%K 原子模型
%K 覆盖度
%K 纳米晶
%K 因素
%K 密度
%K 缺陷
%K 微尺度
%K 界面交互作用
%K 纳米尺度
%K 实验事实
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=C101C4C04993B4D94FCD8446E6CBEB3B&aid=7EC671B9AD9228EC5BBECF7906CBD67A&yid=67289AFF6305E306&vid=BC12EA701C895178&iid=38B194292C032A66&sid=EBD6B792C9111B87&eid=211C7E02AC474301&journal_id=1005-3093&journal_name=材料研究学报&referenced_num=0&reference_num=14