%0 Journal Article
%T STUDY ON SURFACE ISOLATION FILM OF NiTi SHAPE MEMORY ALLOY<br>NiTi形状记忆合金表面改性绝缘膜的研究
%A CHEN Bin
%A CHEN Feixia
%A CUI Lishan
%A YANG Dazhi
%A <br>陈斌
%A 陈非霞
%A 崔立山
%A 杨大智
%A 朱英臣
%J 材料研究学报
%D 1994
%I 
%X 用三级反应溅射离子镀法在ＮｉＴｉ形状记忆合金基片上镀制ＴａＮ膜，并在６００℃干燥空气中氧化１ｈ，形成氧化膜。研究了氧化后的ＴａＮ膜的性能及其成分和结构，结果表明：膜完全氧化成ＴａＯ．Ｔａ，Ｎ，Ｏ等在膜中分布比较均匀，它的韧性良好，与基体结合强度高，绝缘性良好；膜－基体间约有４０ｎｍ的离子束混合区。
%K NiTi shape memory alloy
%K surface modification
%K isolation film<br>形状记忆合金
%K 表面改性
%K 镍钛合金
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=84529CA2B2E519AC&jid=C101C4C04993B4D94FCD8446E6CBEB3B&aid=C3F978B8DD6DFC25&yid=3EBE383EEA0A6494&vid=5D311CA918CA9A03&iid=E158A972A605785F&sid=160561E9A96393DE&eid=4AD4BA66429F5627&journal_id=1005-3093&journal_name=材料研究学报&referenced_num=3&reference_num=1