%0 Journal Article
%T A simple expression for impurity distribution after multiple diffusion processes<br>多次扩散后杂质分布的简单表达式
%A Hu Hao
%A Chen Xingbi
%A <br>胡浩
%A 陈星弼
%J 半导体学报
%D 2010
%I 
%X 在现代半导体工艺中有多次不同温度的扩散过程。文章分析了经历这些扩散过程后的杂质分布并且给出了一个简单的表达式。文章指出多次扩散后的杂质分布可以用一个有效扩散长度来表征并且给出了有效扩散长度和各次扩散过程的扩散长度的关系。表达式的结果同工艺仿真软件SUPREM 4符合的很好。文章还给出了如何应用表达式的例子。
%K impurity distribution
%K multiple diffusions
%K planar junction<br>杂质分布
%K 多次扩散
%K 平面结
%U http://www.alljournals.cn/get_abstract_url.aspx?pcid=5B3AB970F71A803DEACDC0559115BFCF0A068CD97DD29835&cid=1319827C0C74AAE8D654BEA21B7F54D3&jid=025C8057C4D37C4BA0041DC7DE7C758F&aid=438422B763BA9B8460F4D0F287988570&yid=140ECF96957D60B2&vid=4AD960B5AD2D111A&iid=94C357A881DFC066&sid=DC0A69D123075130&eid=E158A972A605785F&journal_id=1674-4926&journal_name=半导体学报&referenced_num=0&reference_num=0